变形石英位错的跑动机制及光性异常现象
中图分类号:

P619.233

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    在透射电子显微镜(TEM)下测得石英位错滑移面主要为基面和柱面,但本样品发现以三方双锥为滑移面的滑移系(1(?)1(?))[1(?)11]。石英位错壁组态多样,形成机制不同,本文讨论了影响波状消光程度的因素。正交偏光下变形石英2V角可达5°~10°。透射电子显微镜得到(0001)取向的两相邻(2420)面旋转Moirè图,本文认为光轴角的改变由((?)4(?)0)面旋转造成,每旋转0.01°,光轴角将发生5°左右变化。柱面的滑移与旋转可以解释石英C轴优选方位及位错优选方位的机制。

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引用本文

曹林 张心宏.1990.变形石英位错的跑动机制及光性异常现象[J].地质论评,36(4):354-,[DOI].
.1990.[J]. Geological Review,36(4):354-.

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